INFICON ALD探頭（傳感器）

在 ALD 應用中實現(xiàn)準確度、正常運行時間和最少維護
INFICON ALD 傳感器將石英晶體微天平（QCM）測量的可重復性、精確性和耐用性帶入原子層沉積 （ALD）。ALD 傳感器可承受高達 450oC 的高溫，設計在嚴苛的 ALD 應用環(huán)境中運行。裸露的晶體電極*接地以有效地消除與電干擾有關的任何潛在問題。
專為 ALD 而設計
INFICON ALD 傳感器*的一種功能是導氣管，通過它可使用惰性氣體吹掃晶體和傳感器后側，通常使用氮氣。這可防止反應室的氣體進入傳感器頭，并確保晶體背面和電氣觸點無沉積材料。這種技術可在不適合使用標準 QCM 的系統(tǒng)中實現(xiàn)現(xiàn)場測量。
饋入件和饋入件連接
INFICON ALD 傳感器可采用自定義焊接長度，也可采用長度可調的壓縮接頭而無需銅焊或焊接。所有配置都使用 2 3/4in. （CF40） ConFlat® 法蘭饋入件。
高溫晶體實現(xiàn)更準確的測量
與 INFICON 的新型高溫石英晶體結合使用時，INFICON ALD 傳感器可在高溫應用中達到測量精度和較低的頻率噪聲。這些高溫晶體針對 120、240 和 285°C 應用進行了優(yōu)化，因此您總能獲得適合自己應用的正確晶體。也可提供針對其他溫度優(yōu)化過的晶體。請根據(jù)自己的需求聯(lián)系 INFICON。

功能

• 工作溫度高達 450°C

• 氣體吹掃管路可防止晶體背面出現(xiàn)沉積材料

• 焊接式 Conflat 法蘭 （CF40） 選件

• O 形密封環(huán)壓縮接頭選件

• 提供高溫晶體

好處

• 與大多數(shù) ALD 過程溫度兼容

• 明顯減少維護工作

• zuidahua系統(tǒng)運行時間

• zuidahua測量精度

• 在高過程溫度下可獲得低噪聲的穩(wěn)定讀數(shù)

典型應用

• 原子層沉積 （ALD）