金屬零部件Showerhead中文名叫噴淋頭、氣體分配盤或勻氣盤

• 結(jié)構(gòu)設(shè)計

• 微孔結(jié)構(gòu)：半導體 Showerhead 表面布滿了幾百上千個微小的通孔，孔徑通常在 0.2-6mm 之間。這些微孔的大小、分布、形狀和噴射角度等都是根據(jù)具體工藝精確設(shè)計的，以確保氣體能夠均勻地分配到反應腔中2。

• 氣體通道：內(nèi)部有復雜的氣體通道結(jié)構(gòu)，用于引導和分配不同的氣體，使它們在到達反應腔之前能夠充分混合和均勻分布，以滿足半導體工藝對氣體流量和濃度的精確要求。

• 材料分類1

• 金屬 Showerhead：材質(zhì)包括鋁合金、不銹鋼和鎳金屬等，其中鋁合金是zuiguang泛使用的材料，因為它具有良好的導熱性能、較強的抗腐蝕能力，來源廣泛且易于加工。

• 非金屬 Showerhead：材質(zhì)包括碳化硅（CVD-SiC）、單晶硅、石英玻璃和高純度陶瓷等，主要應用在芯片加工設(shè)備的關(guān)鍵工藝制程位置，對材質(zhì)和加工后的零件質(zhì)量，尤其是孔的一致性要求jigao。

• 功能作用

• 氣體均勻分配：將各種工藝氣體均勻地噴射到反應腔室內(nèi)的晶圓表面，確保晶圓不同區(qū)域能夠均勻地 “沐浴" 在工藝氣體中，從而提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量，保證沉積膜層的均勻性和一致性2。

• 參與化學反應：在化學氣相沉積（CVD）等工藝中，Showerhead 將不同的前驅(qū)體氣體混合并噴射到襯底表面，使其在一定條件下發(fā)生化學反應，形成所需的薄膜，如硅氧化物、多晶硅、金屬氧化物等2。

• 控制反應環(huán)境：用于控制反應腔室內(nèi)的氣氛和溫度，提供精確的氣體混合物，并在所需的位置產(chǎn)生均勻的氣體，確保反應腔室內(nèi)的氣體分布均勻，實現(xiàn)穩(wěn)定的沉積過程2。

• 形成均勻電場：在等離子體輔助工藝（如 PECVD、干法刻蝕）中，Showerhead 作為電極的一部分，通過射頻電源產(chǎn)生均勻電場，促進等離子體均勻分布，進而提升刻蝕或沉積的均勻性2。

  應用領(lǐng)域
  

• 刻蝕工藝：在刻蝕設(shè)備中，Showerhead 用于精確控制刻蝕氣體的流量和分布，確保對晶圓表面的精確刻蝕，以形成所需的電路圖案和結(jié)構(gòu)4。

• 沉積工藝：如化學氣相沉積（CVD）、物理氣相沉積（PVD）等，Showerhead 將沉積材料的前驅(qū)體氣體均勻地輸送到晶圓表面，實現(xiàn)薄膜的生長和沉積2。

• 清洗工藝：在半導體清洗設(shè)備中，Showerhead 可以將清洗液或氣體均勻地噴射到晶圓表面，去除表面的雜質(zhì)和污染物，保證晶圓的清潔度。